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真空金属腔体（半导体薄膜沉积）

用于半导体薄膜沉积的真空金属腔体，提供高真空环境以确保薄膜质量与工艺稳定性。

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品牌：索屿

用途：用于半导体薄膜沉积的真空金属腔体，提供高真空环境以确保薄膜质量与工艺稳定性。

主要材质：合金材料

腔体类型：适用于反应腔、备用腔

工艺类型：有局部掏空和整理激光焊接

涂层：硬质阳极氧化、本色阳极氧化

真空率：根据客户定制化要求

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